中微公司成功從美國國防部中國軍事企業(yè)清單中移除
中國上海,2024年12月19日——中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,,上交所股票代碼:688012)今日宣布,美國國防部已在2024年12月18日(美國東部時(shí)間)正式將中微公司從中國軍事企業(yè)清單(Chinese Military Companies List,,以下簡稱“CMC清單”)中移除,。
2021年1月14日,美國國防部無端地把中微公司列入“中國共產(chǎn)黨軍事企業(yè)”(CCMC)清單,。經(jīng)過中微公司四個(gè)多月的據(jù)理力爭,,美國國防部在2021年6月3日將中微公司從清單上移除。但是,,在2024年1月31日,,美國國防部再次無理由地把中微公司列入在美國有運(yùn)營的“中國軍事企業(yè)”(CMC)清單。中微公司堅(jiān)信,,美國國防部將中微公司列入CMC清單完全是沒有道理的,,是為了打壓中國的半導(dǎo)體設(shè)備頭部企業(yè)和遏制中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展。中微公司也堅(jiān)信,,通過有效的溝通,,乃至法律訴訟,會(huì)使美國國防部糾正錯(cuò)誤的決定,,將中微公司從CMC清單中移除,。
在向美國國防部嚴(yán)正交涉、提交有力的申述,,要求美國國防部將中微公司從CMC清單中移除未果的情況下,中微公司于2024年8月14日在美國哥倫比亞特區(qū)聯(lián)邦地區(qū)法院正式起訴美國防部,。經(jīng)過四個(gè)月的訴訟和進(jìn)一步的據(jù)理力爭,,美國國防部正式將中微公司從CMC清單移除。這標(biāo)志著中微公司為澄清事實(shí),、維護(hù)自身合法權(quán)益和聲譽(yù)所做的努力取得了重大成果,。
在過去的十七年里,中微公司在和美國設(shè)備公司及美國政府的五次法律訴訟中,,四次取得勝利,,兩次成功和解。這說明在商業(yè)和政府關(guān)系上,,只要我們奉公守法,,擺事實(shí)講道理,據(jù)理力爭,,斗智斗勇,,我們就會(huì)立于不敗之地。
中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士表示,,“我們對(duì)美國國防部的這一決定表示歡迎,,這將有利于中微公司的健康發(fā)展,。此次成功的從CMC清單移除,充分彰顯了中微公司維護(hù)自身合法權(quán)益的決心和能力,。中微公司將一如既往地合法合規(guī)經(jīng)營,,堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品差異化和知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù),,為中國和國際客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和一流的服務(wù),,致力于在競爭力、客戶滿意度和市場規(guī)模上,,成為全球一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司,。”
關(guān)于中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案,。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類,,包括十幾種細(xì)分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶,,從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用,。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備,如MOCVD,,LPCVD,,ALD和EPI設(shè)備,并取得了可喜的進(jìn)步,。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備早已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn),,并在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。此外,,中微公司也在布局光學(xué)和電子束量檢測設(shè)備,,并開發(fā)多種泛半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備。這些設(shè)備都是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備,,可加工和檢測微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件,。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ),它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式,。在美國TechInsights(原VLSI Research)近五年的全球半導(dǎo)體設(shè)備客戶滿意度調(diào)查中,,中微公司三次獲得總評(píng)分第三,薄膜設(shè)備三次被評(píng)為第一,。
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