臺積電2nm工藝將繼續(xù)漲價:每片晶圓超3萬美元
導(dǎo)讀:據(jù)報道,臺積電在2nm制程節(jié)點上取得了重大突破,,將首次引入Gate-all-aroundFETs晶體管技術(shù),。N2工藝還結(jié)合了NanoFlex技術(shù),為芯片設(shè)計人員提供了前所未有的標(biāo)準(zhǔn)元件靈活性,。相較于當(dāng)前的N3E工藝,,N2工藝預(yù)計將在相同功率...
據(jù)報道,臺積電在2nm制程節(jié)點上取得了重大突破,,將首次引入Gate-all-around FETs晶體管技術(shù),。N2工藝還結(jié)合了NanoFlex技術(shù),為芯片設(shè)計人員提供了前所未有的標(biāo)準(zhǔn)元件靈活性,。相較于當(dāng)前的N3E工藝,,N2工藝預(yù)計將在相同功率下實現(xiàn)10%至15%的性能提升,或在相同頻率下將功耗降低25%至30%,。
據(jù)悉,,臺積電每片300mm的2nm晶圓的價格可能超過3萬美元,高于之前預(yù)期的2.5萬美元,。相比之下,,目前3nm晶圓的價格大概在1.85萬至2萬美元,而4/5nm晶圓的價格在1.5到1.6萬美元之間,。
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